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蒸発源

E-Beam Evaporator

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ミニチュアエバポレータ    
  e-flux 2  Electron Beam Evaporator

シリーズ共通の静電場収束型電子衝撃加熱蒸発源です。 2元素を同時装填、独立蒸発制御、同時蒸発が可能です。

UHV環境下での多層膜蒸着アプリケーションに対応したマルチポケット(2元)の製品です。本体はCF70(DN35CF)フランジからマウント可能です。電子衝撃加熱ならではの広範囲(400K~3100K)の種材料の蒸着に対応可能です。Sub-MonolayerからMulti-Nanometerレンジの薄膜アプリケーションに対応した優れた低蒸発レート特性と各種の蒸発制御オプションが選択可能です。 各種の多層膜生成アプリケーションに対応した自在な蒸発材料を利用できます。蒸発材料形状に対応したRod&Crucible両用の仕様に加え、蒸発温度、蒸発条件の異なる2元素の独立制御、同時蒸着を可能にします。蒸発源本体はUHV環境下での薄膜生成過程に配慮した水冷シールド構造を採用、プロセス上重要なCross Contaminationの発生を極限的に抑える構造に配慮しました。フラックスシャッター、2元素独立のフラックスモニター、Crucible温度制御の熱電対等、多彩な蒸発制御、プロセスコントロールオプションがあります。

(詳細は弊社までお問い合せ下さい。)

 

磁場を使わない電子収束方式の為、磁性材料の薄膜化や磁場影響を嫌う装置ユニットとの併設や搭載も可能です。このソースの蒸着制御性は非常に高く、多くの材質についてモノレイヤー単位の蒸着制御性をもちます。フラックスは蒸発点からのガウス分布をとり均質な膜分布が期待できます。

このソースユニットはフラックス中に試料基板にダメージとなるエネルギーの高い荷電粒子成分の混入がなく、蒸発熱影響を抑える優れたデザインコンセプトで製作されています。CF70フランジマウントのコンパクトな本体は完全UHV対応のミニエバポレータとして、各種の高純度薄膜プロセスに応用可能な信頼性の高いソースユニットです。

W、 Ta、 Mo、 C、 Pt、 Cr、 Ti、 Fe等の金属材料はロット状(線径2㎜〜6㎜)から蒸発可能です。Ag, Au, Al, Ni 等の材料ではCrucible (オプション)を選定下さい。
Mn、Pd、Pt、Si等の材料蒸着や合金、昇華性物質、その他アプリケーションに応じた様々な対応もご相談下さい。シンプルでリースナブルな機器構成からアプリケーションに対応した豊富なオプション構成まで、ご要求に適う自在なユニット構成を実現致します。
(詳細は弊社までお問い合せ下さい。)

 
Key Fuatures&Basic Comprises
  • ・ ハイパワー(最大600W)の専用制御電源
    ・ エミッション値をダイレクトに設定した運転モードが可能
    ・ ロットフィードのタイミングをサポートするLED表示ガイド機能
    ・ ロット材料直接加熱とCrucibleを選択可能
    ・ 各種のロット線径に対応可能(φ2㎜〜6㎜)
    ・ Full UHV 対応、ベークアウト
    ・ 蒸発源ヒートラジエーションシールド+水冷機構
    ・ シンプルなベーシック構成と豊富なオプション
    ・ 広範囲な蒸発材料に対応可能
    ・ 25㎜ロットフィード (50mm オプション)
    ・ フィラメントはセルフメンテナンス
    ・ 専用制御電源(0-400W)MAX600W
    ・ 0-10V 外部制御端子
 
     
 
Specifications    
e-beam Power: 0−600W (スタンダード)
ロット蒸発:  W, Ta, Mo, C, Pt, Cr, Ti, Fe etc.
Suitable for refractory metals and other materials which reach high partial pressures e.g. 10-1 Torr before melting.
Crucible 蒸発: Ag, Au, Al, Ni etc.
Crucible operation is for insulators or other poor electrical conductors and low vapour pressure materials such as gold and aluminium which melt before reaching useful vapour pressures.
蒸着レート: >0.01A/sec (Fine Control) >1 nm/sec (Refractory materials at 10cm)
>15−20 nm/min for higher vapour pressure materials.
適合ロット径:φ2㎜ (MAXφ6㎜までオプション対応可能)
Crucibles: Ta, Mo, W, Graphite: Up to 0.25cc standard (others optional)
ロットフィードLinear Drive: 25mm (50㎜ オプション)
ソースマウントフランジ: CF70 (DN35CF) Flange
In vacuum length:190mm (スタンダード) Maximum in-vacuum diameter:34mm
制御電源入力電圧: AC100V(±10%) (50/60Hz)
 
 
Options    

【ソースユニットオプション】
・フラックスモニター
・TCリードアウト端子
・フラックスシャッター(手動、自動)
・50㎜ロットフィード
・Crucible (0.25cc)
【制御オプション】
・フラックスモニター、フラックス制御オプション
・イオントラップ(フラックス中のイオン種除去) 
・蒸発源温度制御/PIDループ制御(Crucibleオプション専用 )
・水晶発振式膜圧モニター(制御オプション)
 
     
ご注意:カタログに記載の内容は予告なく変更される場合があります。(Vol:2013-04)